求翻译；et.al proc.Int.Interconnect Tech.Conf.(2006),p,187 这是一篇参考文献，就告诉出版社与出版地

文献出自2006年的国际互联技术会议。没写出版地。et al 是拉丁语“以及其他人”的意思，用于列出一部分作者后省略其他人。作者是Yang C C ,Spooner T, Ponoth S等人。
不知为啥我在网上找这篇文献结果给的链接是Science的这篇文章：Chemical Mechanical Polish of Potential New Barrier Material Ruthenium (Ru) in ULSI Copper Interconnects
附链接：